ASTM F1618-2002 测定硅片薄膜均匀性的标准规程

作者:标准资料网 时间:2024-05-01 16:35:45  浏览:9172   来源:标准资料网

【英文标准名称】:StandardPracticeforDeterminationofUniformityofThinFilmsonSiliconWafers
【原文标准名称】:测定硅片薄膜均匀性的标准规程
【标准号】:ASTMF1618-2002
【标准状态】:作废
【国别】:
【发布日期】:2002
【实施或试行日期】:
【发布单位】:美国材料与试验协会(US-ASTM)
【起草单位】:F01.06
【标准类型】:(Practice)
【标准水平】:()
【中文主题词】:薄片;硅氧烷;薄膜
【英文主题词】:dielectriclayers;epitaxiallayers;ionimplant;metalfilms;samplingplans;semiconductor;silicon;thinfilms;uniformity
【摘要】:ThisstandardwastransferredtoSEMI(www.semi.org)May20031.1Thispracticecoversasetofsitedistributionpatternsformeasuringtheuniformityofapropertyofathinfilmonasiliconwafer,aswellassimpleproceduresforanalyzingan
【中国标准分类号】:L40
【国际标准分类号】:29_045
【页数】:7P.;A4
【正文语种】: